大型真空等離子體清洗設備VPS-RF210簡介：

VPS-RF210是一款大型真空等離子體清洗設備，適用于大批量工業生產使用。等離子體清洗通過其中的活性離子與物體表面發生化學反應來達到清洗的目的。例如通過氧氣清潔物體表面的有機物，產生氧化反應，氧等離子體和污染物產生二氧化碳、氧化碳和水。通過氮氣電離形成的等離子體可以與部分子結構發生關鍵反應，因此它也是一種活性氣體，但與氧氣和氫氣相比，顆粒相對較重；在清洗和活化的同時，可以達到一定的轟擊和蝕刻效果，防止部分金屬表面氧化。如今，等離子清洗機廣泛用于當代半導體、電路等行業，在元件封裝前、芯片鍵合前可借助等離子清洗處理，其優點是清除效率高，不會對樣品表面造成損傷，從而提升產品的質量。

大型真空等離子體清洗設備特點：歐美放電技術，專業型放電結構，科學仿真等離子體分布均勻，處理效果均勻。

產品應用：提高親水性、改善粘接性、表面微刻蝕、有機物去除、提高表面能、提高印刷油墨附著力。

產品參數：